崗位職責:
1.負責存儲器研發(fā)所需的先進光刻工藝研發(fā);
2.依據(jù)研發(fā)需求,制定光刻工藝的研發(fā)計劃,建立并優(yōu)化工藝條件,保障整體研發(fā)進度;
3.依據(jù)工藝整合的需求,制定相關(guān)工藝規(guī)格,對工藝中存在的課題進行攻關(guān),拓展工藝窗口,提升產(chǎn)品良率及性能;
4.引入和評估驗證新材料、新機臺、新功能,并降低工藝成本;
5.分析數(shù)據(jù)并總結(jié)和匯報研發(fā)進展,撰寫相關(guān)論文和申請專利。
任職要求:
1. 碩士研究生以上學歷,理工科背景,物理/光學/化工/微電子/材料等理工類相關(guān)專業(yè)
2. 3年以上邏輯或存儲半導(dǎo)體行業(yè)光刻領(lǐng)域工作經(jīng)驗,有研發(fā)工作經(jīng)歷優(yōu)先;
3. 熟悉半導(dǎo)體工藝流程與光刻工藝。熟悉光刻工藝中的工藝窗口優(yōu)化,光學臨近效應(yīng)修正,線寬和套刻的控制與改進,光阻的評估與驗證;
4. 較強的溝通表達能力、組織協(xié)調(diào)能力和團隊合作精神;
5. 流暢的英文閱讀和寫作能力。