崗位職責
1、負責衍射光柵曝光工藝的調試及優(yōu)化,確保光柵周期、槽型精度等關鍵指標達標;
2、設計實驗,分析環(huán)境變量對光柵性能的影響,提出改進方案;
3、操作高精度曝光設備,完成光柵掩模制作及基片曝光流程;
4、制定設備維護計劃,協(xié)同工程師解決設備異常問題,保障工藝穩(wěn)定性;
5、監(jiān)控量產過程中的曝光工藝良率,分析缺陷成因,制定SOP,推動快速閉環(huán)解決;
6、配合其他工序負責人完成工藝流轉;
7、撰寫工藝報告、專利及技術文檔。
任職要求
1、學歷:光學工程、微電子、材料科學等相關專業(yè)本科及以上。
2、經驗:1-3年光柵/半導體光刻/微納加工曝光工藝經驗,熟悉全息曝光或紫外光刻優(yōu)先。
3、技能:熟練使用仿真工具,具備數(shù)據(jù)分析能力。